Plasma Enhanced Atomatic Deposition System
Je kunt niet meer deelnemen.
Je kunt niet meer deelnemen.
The Product should coat layers with high uniformity and structures with high aspect ratios. It should be possible to tune the optical properties - density and stress in the films by adjusting deposition parameters. The The The Product should be capable of depositing the following materials: Al2O3 - TiO2 - ZnO - In2O3 - SnO2 - NiOx - SiO2 and HfO2 - with the option to easily switch to different materials - such as nitrides like AlN and TiN and metallic layers like Pt and Ru. 1 plasma enhanced atomic disposition system
Van ruwe aanbestedingsdata naar inzichten waar je direct op kunt sturen. TenderGuide maakt zichtbaar wat er speelt, wat er komt en waar jouw kansen liggen.
Zie waar de meeste aanbestedingen zijn en waar groei zit.
Weet wanneer contracten aflopen en waar nieuwe kansen ontstaan.
Zie wie wint in jouw markt en waar jouw grootste kansen liggen.
Blijf op de hoogte en maak sneller de juiste keuzes.
Met slimme zoekfuncties
Voor jouw sector en regio
Data-gedreven inzichten